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  271. Annual Report 2012  
Annual Report 2012 A N N U A L R E P O RT 2012 Publishing Details Contents 4 6 8 Publisher Institut für Mikroelektronik- und MechatronikSysteme gemeinnützige GmbH* Ehrenbergstraße 27 D-98693 Ilmenau +49.3677.6955.00 Tel +49.3677.6955.15 Fax imms@imms.de http://www.imms.de Editing and Proof Reading Prof. Dr.-Ing. Ralf Sommer Dipl.-Ing. Hans-Joachim Kelm Dipl.-Hdl. Dipl.-Des. Beate Hövelmans Translation Susan Kubitz, www.QualityTranslations.de 10 11 Design, Photographs and Illustrations Dipl.-Hdl. Dipl.-Des. Beate Hövelmans 12 16 17 21 Typography and Information Graphics Dipl.-Hdl.…  
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  272. Modulare IoT-Plattform für Umweltmonitoring  
Modulare IoT-Plattform für Umweltmonitoring  
Pressemitteilungen
  273. Praktika, HiWi-Jobs, Bachelor- und Master-Arbeiten  
Studentinnen und -Studenten geben in einem Video einen Überblick über ihre Arbeiten am IMMS  
Pressemitteilungen
  274. Neuer Themenbereichsleiter für Mechatronik  
Dr.-Ing. Ludwig Herzog leitet seit dem 01.12.2022 das Mechatronik-Team des IMMS  
Pressemitteilungen
  275. IMMS für den XXV. Innovationspreis Thüringen 2022 nominiert  
Skalierbare Ultraschall- und Volumenstrom-Sensorplattform für die Optimierung der Energieeffizienz in der Industrie  
Pressemitteilungen
  277. Hochempfindliche Beschleunigungsmessung mit kleinem MEMS-Sensor  
IMMS erhält iENA-Bronzemedaille für mikroelektromechanischen Beschleunigungssensor  
Referenz
  279. Operation and performance evaluation of vertical nanopositioners for 10 mm stroke in a 3D lift and tilt test setup  
Steffen Hesse, Michael Katzschmann Alex S. Huaman Stephan Gorges Eberhard Manske euspen – Special Interest Group Meeting: Precision Motion Systems & Control, 15th – 16th November 2022, s-Hertogenbosch, The Netherlands, NL  
Referenz
  280. NFM-100  
Hochgenaues Präzisionsantriebssystem mit räumlichen (6D) Positioniergenauigkeiten im einstelligen nm-Bereich. Für die Grundlagenforschung zur Nanomesstechnik und Nanofabrikation der TU Ilmenau wurde mit der Nanofabrikationsmaschine NFM-100 ein System realisiert, welches zum einen die Abtastung von Oberflächen (AFM) und zum anderen die Bearbeitung mittels Feldemissions-Rastersondenlithographie erstmalig in einem xy-Verfahrbereich von Ø100 mm möglich macht.  
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