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Veranstaltung

521. KI-Entwicklerstammtisch

Immer am zweiten Dienstag im Monat. Veranstalter: Mittelstand 4.0

Referenz

522. VE-ARiS

3 übereinander gesteckte Platinen mit Bauelementen

Das IMMS entwickelte Verfahren zum Kopierschutz für integrierte Schaltungen, um das Know-how von Partnern zu sichern.

Referenz

523. EXPerimentierfeld zur datengetRiebenen VErnetzung und DigitaliSierung in der LandwirtSchaft (EXPRESS)

Ingolf Römer, Martin Schieck Hannes Mollenhauer Rikard Graß Silvia Krug Juliane Welz Valentin Knitsch 41. GIL-Jahrestagung, Informations- und Kommunikationstechnologien in kritischen Zeiten, 7. - 8. März 2021, online

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524. Best Paper Award für den Beitrag: Picometer-Scale Positioning of a Linear Drive System via Feedforward-Feedback Control

Auszeichnung mit dem Best Paper Award auf der International Conference of Mechatronics, ICM, 7th-9th March 2021, Kashiwa, Japan

Veranstaltung

525. 41. GIL-Jahrestagung

Leibniz-Institut für Agrartechnik und Bioökonomie e.V.

Pressemitteilungen

526. Thüringer Projekt entwickelt neuartige Technologieplattform zum Nachweis von SARS-CoV-2

Voruntersuchungen am IMMS für miniaturisierte Messtechnik für kleinste Ströme zum SARS-CoV-2-Nachweis. Foto: IMMS.

Änderung der elektrischen Leitfähigkeit macht Virusmaterial sichtbar

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527. ViroGraph

Voruntersuchungen am IMMS mit Sensor der FSU Jena mit 15 Graphen-FETs für miniaturisierte Messtechnik zum SARS-CoV-2-Nachweis. Foto: IMMS.

Es wird eine neuartige Technologieplattform mit Graphen-basiertem Feldeffekttransistor zum Nachweis von SARS-CoV-2 entwickelt.

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528. Picometer-Scale Positioning of a Linear Drive System via Feedforward-Feedback Control

Alex S. Huaman, Michael Katzschmann Steffen Hesse Christoph Schäffel Christoph Weise Denis Dontsov Eberhard Manske Johann Reger 2021 IEEE International Conference on Mechatronics (ICM2021), DOI: https://doi.org/10.1109/ICM46511.2021.9385699, 7 - 9 March 2021, Kashiwa, Japan

Veranstaltung

529. ICM 2021

International Conference on Mechatronics

Referenz

530. Nanopositioning and fabrication using the Nano Fabrication Machine with a positioning range up to ⊘100 mm

Jaqueline Stauffenberg, Christoph Reuter Ingo Ortlepp Mathias Holz Denis Dontsov Christoph Schäffel Jens-Peter Zöllner Ivo Rangelow Steffen Strehle Eberhard Manske Proc. SPIE 11610, Novel Patterning Technologies 2021, 1161016 (22 February 2021); DOI: https://doi.org/10.1117/12.2583703