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Veranstaltung

431. CHANTS 2017

12th Workshop on Challenged Networks, Co-located with ACM MobiCom 2017

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432. Characterizing Dynamics of MEMS Devices on Wafer Level Using Optical Measurement Techniques

Sebastian Giessmann, Steffen Michael, Eric Lawrence, Heinrich Steger, 2023 Commercial Micro Manufacturing International Magazine (CMM Magazine), 08-2023

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433. Charakterisierung und Test von elektrostatischen Energieharvestern – Eine neue Schaltungstopologie für exaktere Messungen

Björn Bieske, Gerrit Kropp, Lübeck 2017 29. GI/GMM/ITG-Workshop, Testmethoden und Zuverlässigkeit von Schaltungen und Systemen (TuZ 2017)

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434. Charakterisierung von HF-Zellen verschiedener Technologien unter Nutzung modularer PXI-Testsysteme

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435. Charakterisierung, Optimierung und PEEC-Modellierung für einen Signalübertragungsabschnitt in Multi-Chip-Modulen

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436. Chipdesign Germany

Wir haben mit der TU Ilmenau ein KI-basiertes Verfahren entwickelt, um automatisiert nicht-erprobte und potenziell fehlerhafte Stellen in Layouts zu detektieren. Unser Plugin für das freie Entwurfs-Tool KiCad gibt es auf GitHub. Quelle: IMMS.

Eine Veranstaltung der Designinitiative Mikroelektronik

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437. Christian Paintz, Melexis

„Insbesondere bei der Auswertung von Messdaten hat das IMMS eindrucksvoll demonstriert, dass ein lernender Algorithmus der manuellen Auswertung ebenbürtig ist – bei gleichzeitig großer Zeitersparnis. Auch die Methoden zur Schaltungs- und Layoutanalyse verfolgen wir weiter, da wir auch hier ein großes Forschungs- und Anwendungspotential sehen.“

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438. CIM 2025

Komplexe Konstruktion aus Glas-, Metall-, Elektronik- und Pneumatikkomponenten auf einem Granitblock.

22nd International Metrology Congress

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439. CiS-Workshop 2023

ANSYS-Simulation von MEMS-Strukturen für eine Modellbibliothek zum Entwurf neuartiger Multisensor-Anwendungen. Foto: IMMS.

Workshop Simulation & Design 2023 am CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik

Veranstaltung

440. CIVEMSA 2022

The IEEE International Conference on Computational Intelligence and Virtual Environments for Measurement Systems and Applications